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無掩膜直寫光刻設(shè)備擁有跨尺度納米級三維加工能力

更新時間:2024-12-07      點(diǎn)擊次數(shù):420
無掩膜激光直寫光刻機(jī)‌是一種利用激光直接在光刻膠上曝光制作所需圖案的設(shè)備,其適用于實(shí)驗室和科研機(jī)構(gòu),能夠進(jìn)行微納尺度的光刻加工。應(yīng)用:
電子/半導(dǎo)體器件
微/納電機(jī)系統(tǒng)
自旋電子學(xué)
傳感器
微流控
材料科學(xué)
生物實(shí)驗室芯片
光子學(xué)
主要特點(diǎn):
適用于大規(guī)模生產(chǎn)和工業(yè)級應(yīng)用
從納米級到十微米多種加工模式,實(shí)現(xiàn)更高的加工精度與速度
加工圖案預(yù)覽功能和對準(zhǔn)誤差補(bǔ)償
加工面自動平整和自動聚焦,保證加工一致性
全自動化的可視控制系統(tǒng)與圖形化編程語言的應(yīng)用,顯著提升設(shè)備調(diào)控的靈活性與自主性
更高的對準(zhǔn)、拼接和套刻精度
長時穩(wěn)定性控制系統(tǒng),保證加工穩(wěn)定性余一致性
更大的加工區(qū)域,適用不同尺寸基材,提供自動化樣品吸盤夾具
跨尺度納米級三維加工能力,魔技納米深入生物醫(yī)藥、維納光學(xué)、光電通信、新材料、防偽等多領(lǐng)域,結(jié)婚自研設(shè)備,摸索并形成面向多個行業(yè)應(yīng)用的成熟的加工工藝。
 

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